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半导体工业用功能性化学品

SEMICOSIL®电子级硅烷因纯度高，金属污染性极低，已成为半导体工业不可或缺的基本材料。作为全球最大的硅烷生产商之一，瓦克在该领域拥有创新的产品组合，包括微电子零部件生产用助剂、工艺优化用原材料，以及在化学气相沉积室中可用来沉积绝缘层的前体等。

优势：

  • 纯度高
  • 金属含量极低
  • 氯化物含量极低
  • 甲醇含量极低
  • 介电常数极低的特种产品可用于新一代芯片

应用领域：

  • 在化学气相沉积工艺中用作生成绝缘层的前体
  • 在旋涂工艺中用作涂层组分

SEMICOSIL®硅氮烷可在平版印刷术中作为助剂用于微电子应用，以及作为原材料用来优化工艺。

优势：

  • 纯度高
  • 金属含量极低
  • 氯化物含量极低
  • 蒸发残留物极少

应用领域：

  • 平版印刷工艺用附着促进剂
  • 光刻胶聚合物改性用原材料
  • 绝缘层表面结构生成用原材料
  • 刻蚀掩膜生产

HDK® I13气相二氧化硅可作为磨砂剂用于化学机械抛光（CMP）浆料。

优势：

  • 金属含量极低
  • BET比表面积差异极小
  • 粗粒比例极低，可有效避免划痕

应用领域：

  • 化学机械抛光（CMP）浆料的组分

SEMICOSIL® HCl 5.5是一种半导体加工领域的高纯氯化氢，可满足最为严格的质量要求。

优势：

  • 高纯
  • 就气体与金属杂质微量而言，品质稳定

应用领域：

  • 半导体制程中的清洁和蚀刻工艺
  • 在外延反应室中对涂层进行蚀刻，以避免微粒释放